感应耦合等离子体硅深刻蚀系统

2009-5-27  阅读数:

仪器名称

感应耦合等离子体硅深刻蚀系统 

   

ICP180

仪器编号

Z4075

仪器来源

购置

生产厂商

牛津仪器等离子技术公司

启用日期

2003-06-30

仪器类别

工艺实验设备-加工工艺实验设备

仪器原值

4161151.2

所在单位部门

中科院合肥智能机械研究所仿生感知与控制研究中心

仪器负责人

倪林

联系电话

0551-5592555

     

安徽省合肥市蜀山湖路350 1130信箱

   

230031

E-mail

linni@iim.ac.cn

主要技术指标

刻蚀材料:硅;

刻蚀速率:大于2μm/min

侧壁陡直度:90±

深宽比:125

硅片尺寸:2~4″,常用为3″

最大刻蚀浓度:300μm 

包含主要附件

1.分子泵 2.干泵 3.油泵 4.质量流量计 5.射频源等

仪器主要功能

用于具有高深宽比的硅微结构加工

仪器服务领域

材料、科研教学

计量认证资质

实验室认可

仪器现状

正常

收费标准

开机费500元(含50微米),超过50微米按10/每微米。

仪器图片